AD
Διεθνή

Οι περιορισμοί των ΗΠΑ στα τσιπ μπορεί να επιταχύνουν την εγχώρια παραγωγή ημιαγωγών της Κίνας

Οι περιορισμοί των ΗΠΑ στα τσιπ μπορεί να επιταχύνουν την εγχώρια παραγωγή ημιαγωγών της Κίνας

Αναλυτές εκτιμούν ότι η μεγαλύτερη απειλή για την ASML ίσως δεν προέρχεται από την κινεζική τεχνολογική πρόοδο, αλλά από την πολιτική της Ουάσιγκτον που μπορεί να ωθήσει το Πεκίνο σε ταχύτερη αυτάρκεια (Interesting Engineering)

Η φερόμενη πρόοδος της Κίνας στην ανάπτυξη εγχώριου εξοπλισμού κατασκευής τσιπ έχει προκαλέσει ανησυχία στη Δύση, όμως αναλυτές υποστηρίζουν ότι οι φόβοι για άμεση ανατροπή της κυριαρχίας της ολλανδικής εταιρείας εξοπλισμού ημιαγωγών ASML ενδέχεται να είναι πρόωροι, καθώς η εταιρεία εξακολουθεί να διατηρεί σημαντικό τεχνολογικό προβάδισμα.

Κρατικά υποστηριζόμενη εταιρεία στη Σαγκάη έχει ξεκινήσει την παραγωγή μηχανημάτων λιθογραφίας βαθιάς υπεριώδους ακτινοβολίας (DUV) με τεχνολογία εμβάπτισης (immersion DUV), με περίπου πέντε συστήματα να αναμένεται να κατασκευαστούν φέτος και ακόμη 20 περίπου το 2027.

Τα πρώτα μηχανήματα, σύμφωνα με τις πληροφορίες, πρόκειται να εγκατασταθούν στις εταιρείες Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), Hua Hong Semiconductor και ChangXin Memory Technologies (CXMT).

Το επίτευγμα αποτελεί ένα σημαντικό βήμα για τις φιλοδοξίες της Κίνας στον κλάδο των ημιαγωγών.

Ωστόσο, παράγοντες της αγοράς επισημαίνουν ότι η εμπορική επιτυχία θα εξαρτηθεί από το κατά πόσο τα μηχανήματα αυτά μπορούν να υποστηρίξουν αξιόπιστα παραγωγή μεγάλης κλίμακας για μεγάλα χρονικά διαστήματα.


Από το πρωτότυπο στη μαζική παραγωγή

Αναλυτές προειδοποιούν ότι η κατασκευή μερικών μηχανημάτων immersion DUV απέχει σημαντικά από την απόδειξη ότι μπορούν να λειτουργούν αξιόπιστα σε εργοστάσια ημιαγωγών όλο το εικοσιτετράωρο.

«Η παραγωγή μηχανημάτων τόσο σύνθετων όσο η λιθογραφία DUV εμβάπτισης, τα οποία είναι εμπορικά βιώσιμα και μπορούν να λειτουργούν 24 ώρες την ημέρα, επτά ημέρες την εβδομάδα, για έναν ολόκληρο χρόνο, είναι εξαιρετικά δύσκολη», δήλωσε ο Paul Triolo, εταίρος και επικεφαλής τεχνολογικής πολιτικής στην DGA-Albright Stonebridge Group.

Παράλληλα, δημοσιεύματα επικαλέστηκαν τον αναλυτή της Jefferies, William Beavington, ο οποίος κάλεσε σε επιφυλακτικότητα, σημειώνοντας ότι προηγούμενες αναφορές για κινεζικές προόδους στην immersion DUV λιθογραφία είχαν αποδειχθεί ανακριβείς.

Ο ίδιος πρόσθεσε ότι οι κινεζικές εταιρείες κατασκευής τσιπ πιθανότατα θα συνεχίσουν να αγοράζουν εξοπλισμό της ASML όσο αυτό είναι δυνατό, λόγω της αποδεδειγμένης απόδοσης και αξιοπιστίας του.

«Η Κίνα αναμφίβολα θα συνεχίσει να αγοράζει μηχανήματα της ASML όσο μπορεί, λόγω της σημαντικά ανώτερης ποιότητάς τους», δήλωσε ο Beavington.

Η Κίνα εξακολουθεί επίσης να εξαρτάται σε μεγάλο βαθμό από εισαγόμενα μηχανήματα παραγωγής ημιαγωγών.

Σύμφωνα με τη Bank of America, οι εισαγωγές εξοπλισμού ημιαγωγών στην επαρχία Ανχούι, όπου εδρεύει η CXMT, ανήλθαν στα 226 εκατ. δολάρια τον Μάρτιο, υπερδιπλάσιες από τον μηνιαίο μέσο όρο του δεύτερου εξαμήνου του προηγούμενου έτους.

Τα συστήματα λιθογραφίας αντιστοιχούσαν στο 57% αυτών των εισαγωγών.


Η πολιτική μπορεί να αποδειχθεί μεγαλύτερη απειλή από την τεχνολογία

Σύμφωνα με αναλυτές, η μεγαλύτερη μακροπρόθεσμη πρόκληση για την ASML ενδέχεται να προέλθει περισσότερο από την Ουάσιγκτον παρά από το Πεκίνο.

Η προτεινόμενη νομοθεσία Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act (MATCH Act) θα ενίσχυε τους περιορισμούς στην πώληση και την τεχνική υποστήριξη συστημάτων immersion DUV σε χώρες που θεωρούνται στρατηγικοί αντίπαλοι.

Αν και το νομοσχέδιο έχει εγκριθεί από την Επιτροπή Εξωτερικών Υποθέσεων της Βουλής των Αντιπροσώπων των ΗΠΑ, δεν έχει ακόμη γίνει νόμος.

«Εάν ο MATCH Act ανάγκαζε την ASML να αποσύρει, για παράδειγμα, τους μηχανικούς της, οι κινεζικές προσπάθειες στην immersion DUV θα δέχονταν τεράστια ώθηση», δήλωσε ο Triolo.

Οι αναλυτές υποστήριξαν επίσης ότι ο περιορισμός της πρόσβασης των κινεζικών εταιρειών σε μηχανικούς της ASML, ανταλλακτικά και τεχνική υποστήριξη θα μπορούσε να επιταχύνει την υιοθέτηση και τη βελτίωση των εγχώριων κινεζικών συστημάτων λιθογραφίας.

Οι ειδικοί εκτιμούν πάντως ότι η Κίνα δύσκολα θα δημιουργήσει μία και μοναδική εταιρεία αντίστοιχη της ASML.

Αντίθετα, το κινεζικό οικοσύστημα λιθογραφίας αναμένεται να βασιστεί σε πολλές εξειδικευμένες εταιρείες που θα αναπτύσσουν διαφορετικές τεχνολογίες στο πλαίσιο μιας συντονισμένης εθνικής προσπάθειας.

Η Κίνα εξακολουθεί να μην έχει πρόσβαση στα πιο προηγμένα συστήματα λιθογραφίας ακραίου υπεριώδους ακτινοβολίας (EUV) στον κόσμο, λόγω των περιορισμών στις εξαγωγές.

Ως αποτέλεσμα, η immersion DUV παραμένει η πιο προηγμένη τεχνολογία λιθογραφίας που είναι σήμερα διαθέσιμη στους Κινέζους κατασκευαστές τσιπ.

www.worldenergynews.gr

Ρoή Ειδήσεων

Δείτε επίσης